图片名称

产品中心

联系我们

深圳市睦坤贸易有限公司

联 系  人:董成明 先生

电      话:86 0755 89689959

传      真:86 0755 33620169

邮 编:518111

地      址:中国 广东 深圳市龙岗区 平湖街道华南城五金化工塑料区M22栋107号

安美特半光镍填平剂906
安美特半光镍填平剂906
+
  • 安美特半光镍填平剂906
  • 安美特半光镍填平剂906

安美特半光镍填平剂906

半光镍 M 906 填平剂 作用是额外提高中至低电流密度区的镀层填平度

所属分类:

镀镍添加剂


返回列表
  • 产品描述
  • 半光镍填平剂906规格为25kg/桶,半光亮镍电镀工艺是专门为防腐性能要求高的电镀工件而设计的,是双层镍、多层镍系统必备的半光亮镍底层。

    半光镍 M 901 一般只在新配镀液时添加。为了令Mark 90 半光亮镀镍电镀工艺能充份发挥其特性,半光镍 M 901 的含量必须保持在操作范围内。一般情况下, 半光镍 M 902 日常的补充已足够维持半光镍 M 901 的浓度,但半光镍 M 901 定期的分析则有助调整其含量至要求范围内。半光镍 M 901 可直接添加不用稀释,但须确保在镀液中分散均匀。半光镍 M 901 主要是带出损耗,一般的活性碳循环过滤(0.1-2.4 克/升)不会除去半光镍 M 901,但较高的活性碳处理(4.8 克/升)可除去50%的半光镍 M 901。

    半光镍 M 902 与半光镍 M 901 共用能控制镀层外观色泽及填平度, 半光镍M 902 的浓度可由目测镀件外观作适当控制。应避免镀层过于光亮,因为这是半光镍 M 902 过量的特征,同时会引致镀层延展性下降及低电流密度区漏镀。过量的半光镍 M 902 只能在电解中消耗,因此日常补充时,最好以安培小时自动加料泵添加。由于半光镍 M 902 较为浓缩及敏感,故每次补充时,M 902 应少量多次加入,每次添加相隔的时间最少30 分钟,而每次的添加量不可多于0.1 亳升/升。半光镍 M 902 的消耗量为80-125 毫升/1000 安培小时, 如采用辅助阳极时,消耗量将会增加。配制新镀液时,半光镍 M 902 的浓度应为0.2 亳升/升。如欲提高半光亮镀镍层的填平度,可增加半光镍 M 902 的浓度。

    半光镍 M 904 的作用是调整提高半光亮镍层与光亮镍层之间的电位差,其标准范围为100-150mv。新开缸时,半光镍M 904 不需加入。半光镍 M 904 不用以安培小时计算补充量,添加前应先分析电位差值,根据分析结果作适当调整。如半光镍镀液受到光亮镍镀液污染而未能获得满意的电位差时,可额外加入半光镍 M 904 抑制污染物的影响, 每加入 0.1 毫升/升半光镍 M 904,可增加电位差约10mv。半光镍 M 904 含有醛类。若Mark 90 半光亮镍电镀工艺应用于塑料电镀,过量的半光镍M 904 添加剂会增加半光亮镍镀层的内应力,使镀层产生裂纹,亦可能会引起结合力问题。
    半光镍 M 906 填平剂 作用是额外提高中至低电流密度区的镀层填平度, 添加量视情况适量加入, 建议添加量为0.5-1.0 毫升/升。

    镀镍系列:镍板、镍角、镍饼、镍珠、硫酸镍、氯化镍、氨基磺酸镍、硼酸、镀镍添加剂

     

    关键词:
    • 填平剂906
    • 电镀光剂

酸铜光亮剂ULTRA 开缸剂

酸铜 Ultra 工艺为硫酸型体系光亮镀铜,镀层具有低内应力、高延展性及高填平度等优势。


酸铜ULTRA B光亮剂

酸铜ULTRA B规格为25kg/桶,一组有3桶分别为ULTRA A、ULTRA B和ULTRA 开缸剂。


硫酸铜

硫酸铜 提供铜离子,铜离子还原沉积形成金属铜镀层。


阴极铜电解铜板

电解铜板规格约为90X85X2cm,纯度为99.99%,可按照客户要求裁剪成各种规格,合金冶炼,镀铜专用。


VALE含硫镍珠

含硫镍珠是一种全活性的镍阳极材料,适用于钛阳极篮电镀法。


焦磷酸钾

焦磷酸钾规格为25kg/袋,镀焦铜专用。主要用途为取代氰化钾,用于无氰电镀。工业上还用于表面处理、高档洗涤剂、油漆涂料、清洁剂、分散剂、缓冲剂等;


日本住友含硫镍饼

日本住友SUMITOMO含硫镍饼规格为20kg/箱,1600kg/卡板,电镀镍专用。


VALE INCO含硫镍饼

加拿大INCO含硫梅花镍饼规格为50kg/箱,1000kg/托。钮扣状镍,直径约25mm,厚度约6.5mm,电镀镍专用。